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陶瓷-金属封接二次金属化研究
陶瓷-金属封接二次金属化研究
来源 :中国电子学会真空电子学分会第二十届学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:bird2000
【摘 要】
:
本文采用显微结构的分析方法和性能测试手段,以二次金属化层为研究对象开展工艺试验,对陶瓷-金属封接工艺进行了新的探讨.分析结果表明采用电镀Cu作为二次金属化层方案是可行
【作 者】
:
何晓梅
刘慧卿
王晓宁
赵崇霞
张静
黄亦工
【机 构】
:
北京真空电子技术研究所 北京100015
【出 处】
:
中国电子学会真空电子学分会第二十届学术年会
【发表日期】
:
2016年期
【关键词】
:
陶瓷
金属封接
金属化层
研究对象
显微结构
工艺试验
封接工艺
分析结果
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本文采用显微结构的分析方法和性能测试手段,以二次金属化层为研究对象开展工艺试验,对陶瓷-金属封接工艺进行了新的探讨.分析结果表明采用电镀Cu作为二次金属化层方案是可行的,并且提出了取消二次金属化层的建议.
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