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半导体刻蚀用耐久性石英玻璃制备及发展现状
半导体刻蚀用耐久性石英玻璃制备及发展现状
来源 :2017年全国玻璃科学技术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:loveqwg
【摘 要】
:
高性能石英玻璃材料及制品是半导体集成电路制造过程不可或缺的关键配套辅材.论文介绍了半导体刻蚀工艺原理、刻蚀过程用石英玻璃材料情况.在此基础上,重点介绍了国内外半导
【作 者】
:
聂兰舰
向在奎
贾亚男
张辰阳
王蕾
王慧
邵竹锋
符博
【机 构】
:
中国建筑材料科学研究总院,石英与特种玻璃研究院,北京100024
【出 处】
:
2017年全国玻璃科学技术年会
【发表日期】
:
2017年8期
【关键词】
:
半导体集成电路
刻蚀工艺
石英玻璃
耐久性能
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高性能石英玻璃材料及制品是半导体集成电路制造过程不可或缺的关键配套辅材.论文介绍了半导体刻蚀工艺原理、刻蚀过程用石英玻璃材料情况.在此基础上,重点介绍了国内外半导体刻蚀用耐久性石英玻璃掺杂元素种类、含量、熔制工艺等制备技术,以及对刻蚀速率的影响.
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