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纳米尺度薄膜可以用作智能卡、传感器、微电子与微机械系统等,可广泛应用于军事、航空航天、医学、能源、环境等领域。纳米尺度膜厚在1nm-100nm之间保持0.1nm误差的准确测量对器件的质量起着举足轻重的作用。针对具有代表性的不同类型纳米尺度薄膜Si/HfO2、Si/SiO2单层膜和GaAs/AlAs超晶格多层膜,开展了掠入射X射线反射、光谱椭偏技术的准确测量方法研究,并通过国际比对验证了方法的可靠性,以及基于上述技术发布的国家一级膜厚标准物质。