论文部分内容阅读
本文提出了电镀添加剂设计的概念，给出了锡基电子电镀添加剂设计的基本方法。由于电镀添加剂作用的复杂性，要得到性能优异的添加剂，必须从分子水平上对添加剂进行设计。添加剂在镀层中的夹杂是通过化学夹杂和物理夹杂引起，从分子水平上设计的低吸附型镀锡添加剂可以减少有机分子的夹杂。
酸性锡基电子电镀添加剂的分子设计
【摘 要】
：
本文提出了电镀添加剂设计的概念，给出了锡基电子电镀添加剂设计的基本方法。由于电镀添加剂作用的复杂性，要得到性能优异的添加剂，必须从分子水平上对添加剂进行设计。添加剂在镀层中的夹杂是通过化学夹杂和物理夹杂引起，从分子水平上设计的低吸附型镀锡添加剂可以减少有机分子的夹杂。
【机 构】
：
长春工业大学化工学院,吉林长春 130012 上海新阳半导体材料股份有限公司,上海 201616
【出 处】
：
2011年全国电子电镀及表面处理学术交流会
【发表日期】
：
2011年5期
其他文献