【摘 要】
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在真空腔室内,合理布置不同折射率溅射孪生靶材,靶材采用平面靶或圆柱靶,反应磁控溅射沉积中闭环动态控制氧分压应用,薄膜沉积速率得到了显著提高,是普通磁控溅射的3～5倍.同时
【机 构】
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广东振华科技股份有限公司,广东肇庆526020
【出 处】
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粤港澳大湾区真空科技与宽禁带半导体应用高峰论坛暨2017年广东省真空学会学术年会
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在真空腔室内,合理布置不同折射率溅射孪生靶材,靶材采用平面靶或圆柱靶,反应磁控溅射沉积中闭环动态控制氧分压应用,薄膜沉积速率得到了显著提高,是普通磁控溅射的3～5倍.同时,利用磁控溅射薄膜致密的优点保证了光学薄膜质量,在线厚度监控系统实现镀膜产品的重复性和一致性.实际镀膜结果表明,大面积磁控光学镀膜设备的镀膜装载量是同等体积腔室的电子枪光学镀膜设备的～2倍(工件公转)与3～4倍(工件公转+自转),并且能够适用于大面积工件基材表面镀膜,高效的镀膜生产效率符合大规模工业化产品镀膜的需求.
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