【摘 要】
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基于本中心RF500型镀膜机,采用流体动力学方法建立了一种自洽的无碰撞射频直流偏压等离子体鞘层动力学模型。模型中考虑了极板直流负偏压对离子运动的影响,这使得该模型能够
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基于本中心RF500型镀膜机,采用流体动力学方法建立了一种自洽的无碰撞射频直流偏压等离子体鞘层动力学模型。模型中考虑了极板直流负偏压对离子运动的影响,这使得该模型能够在不同偏压条件下模拟射频鞘层内各参量的时空演化。另外,与其他一些研究者所采取的假设不同,在该模型中,认为鞘层厚度是与时间有关的函数, 采用等效电路模型建立了鞘层瞬时厚度与鞘层电位降的关系。模拟结果表明,极板上电势的变化并不像其他一些研究中所采用的正弦变化,而是呈非正弦周期性变化;鞘层厚度变化与极板电势变化周期相同,趋势相反。
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