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浸没式光刻机，通过在最后一片投影物镜和硅片之间填充高折射率的液体，来提高光刻的分辨率。在光刻过程中，浸没流场作为光路系统的一部分，必须维持高度的洁净和稳定。作为浸没式光刻的核心技术之一，浸液控制是实现浸没流场稳定和均一的关键。本文围绕本课题组在浸液控制关键技术上的进展展开论述，并针对曝光工艺要求，提出了浸液控制系统的设计方案。