光致产酸剂应用于I线光刻研究

来源 :2017第十五届全国光化学学术讨论会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yjszf22222222
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  I线光刻技术是目前应用最广泛的光刻技术之一,可制备亚微米级图形.相比常用于I线光刻的酚醛树脂/重氮萘醌(Novolac/DNQ)体系,化学放大光刻胶(CAR)具有灵敏度高和分辨率好等优势,但CAR中的光致产酸剂多数对紫外波段光响应性较差,故尽管CAR已广泛应用于193nm光刻,却少见用于I线光刻.因此,本T作设计合成了一种365nm光致产酸剂,并将其用于I线激光干涉光刻和I线近场光刻.光刻分辨率均小于I线光衍射极限,分别为93.3~37.8nm和28nm.本工作进一步拓展了CAR的使用范畴,为继续提高I线光刻胶性能提供了新的可能.
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  通过设计合成了一种基于咔唑的Zn络合纳米线,成功实现了对ng级别的爆炸物(硝基芳香类—二硝基甲苯(DNT)和三硝基甲苯(TNT),脂肪类硝基化合物—2,3-二甲基-2,3-二硝基丁烷
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