【摘 要】
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我们对获得垂直于衬底的两嵌段共聚物薄膜的无缺陷层状相的方法进行了理论研究。在我们的研究中,对两嵌段共聚物薄膜在余弦衬底上的自组装进行了数值计算。其中衬底经过化学
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我们对获得垂直于衬底的两嵌段共聚物薄膜的无缺陷层状相的方法进行了理论研究。在我们的研究中,对两嵌段共聚物薄膜在余弦衬底上的自组装进行了数值计算。其中衬底经过化学处理并对两嵌段共聚物的某一组分有微弱的倾向性。我们运用自洽场理论(SCFT),研究了衬底性质对嵌段共聚物自组装的影响。结果表明,衬底的粗糙程度及对某一组分的倾向性会对嵌段共聚物的自组装产生影响。通过研究衬底的粗糙程度及对某一组分的倾向性对嵌段共聚物自组装的影响,最终在一定参数范围内得到了垂直于衬底的无缺陷层状相。我们的理论研究表明在实验上探究衬底粗糙程度及化学性质对嵌段共聚物自组装的影响是可行的。这为寻找获得无缺陷层状嵌段共聚物薄膜的经济可行的方法提供了可能的方向。
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