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目前,非平衡磁控溅射镀膜技术广泛应用于各种功能涂层的制备,如减摩镀层和硬质耐磨镀层等。本文采用非平衡磁控溅射技术,在不同的溅射功率、偏压、基体状况条件下, 在45#钢表面制备 Cr 膜样件。通过对实验结果的分析,得出了膜层性能与上述工艺参数有关的结论,对磁控溅射法制备 Cr 膜具有一定的参考价值。