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固态源微波镀膜技术介绍

来源 :中国真空学会2012学术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：chen_2006tt

【摘 要】

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　　介绍了微波技术和高压离子轰击克服“靶中毒”实现“反应溅射”的原理和实践，使用纯金属固态源溅射和蒸发后与活性气体进行化合物镀膜的工艺及优势，以及微波对等离子体输运

【作 者】

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于庆先 孙四通 黄富育 高秀敏 李烈英 张敬祎 

【机 构】

：

青岛科技大学

【出 处】

：

中国真空学会2012学术交流会

【发表日期】

：

2012年期

【关键词】

：

固态源 微波技术 镀膜 反应溅射 输运过程 能量补充 离子轰击 解决方法 

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论文部分内容阅读

　　介绍了微波技术和高压离子轰击克服“靶中毒”实现“反应溅射”的原理和实践，使用纯金属固态源溅射和蒸发后与活性气体进行化合物镀膜的工艺及优势，以及微波对等离子体输运过程中能量补充的重要意义。分析了溅射过程难以获得单晶的原因和可能的解决方法。

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