二氧化钛是重要的光学薄膜材料,电子束加热蒸发制备的二氧化钛薄膜通常具有很高的张应力,过高的应力会使薄膜起皱、破裂。离子束轰击对二氧化钛薄膜的应力有很重要的影响。研究结果表明在一定的轰击时间下,用较小离子束流密度的离子束轰击二氧化钛薄膜样品,发现只是应力的大小发生了变化, 但随着离子束流密度的增大,不仅应力的大小发生了变化,而且薄膜的应力由轰击前的张应力变为轰击后的压应力。在一定的离子束流密度下,对二氧化钛薄膜样品轰击不同的时间,应力的变化情况并不一致。对薄膜轰击较短的时间时,由于薄膜的应力还没有达到最大张应力,因而轰击完后薄膜仍然处于张应力状态, 而对样品进行较长时间的轰击时,薄膜的应力由轰击前的张应力会变为轰击后的压应力。在一定的条件下,通过改变离子束的束流密度和离子束的轰击时间,可以改变二氧化钛薄膜的应力状态,这为光学薄膜滤光片应力的控制提供了实验依据。