【摘 要】
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无磨粒化学机械抛光AFP(Abrasive-free ChemicalMechanical Polishing)技术由于克服了传统化学机械抛光(CMP)中纳米磨粒引起的微观划痕、凹陷、颗粒残余等缺点,引起了研究者
【机 构】
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上海大学纳米科学与技术研究中心; 恩淙机电科技(深圳)有限公司;
【基金项目】
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国家自然科学基金(51175317);高等学校博士学科点专项科研基金(20123108110016);上海市教育委员会科研创新项目(13YZ004)的资助
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无磨粒化学机械抛光AFP(Abrasive-free ChemicalMechanical Polishing)技术由于克服了传统化学机械抛光(CMP)中纳米磨粒引起的微观划痕、凹陷、颗粒残余等缺点,引起了研究者的广泛关注,目前已用于铜大马士革层间互连、计算机硬盘等多种材料的平整加工。本文综述了抛光液、抛光垫、抛光工艺参数等对AFP性能的影响以及AFP抛光机理的研究进展,指出了AFP待解决的问题,并对其发展方向进行了展望。
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