【摘 要】
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近三十年来,旋转磁控溅射阴极广泛应用于大面积薄膜制备领域。实现真空腔室内充入工艺气体的稳定且均匀的分布,对获取膜厚均匀性一致的涂层起着至关重要的作用。本文设计了一
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近三十年来,旋转磁控溅射阴极广泛应用于大面积薄膜制备领域。实现真空腔室内充入工艺气体的稳定且均匀的分布,对获取膜厚均匀性一致的涂层起着至关重要的作用。本文设计了一种新型的旋转溅射阴极的布气装置,由一个混合气体可多点逸出的主分布管、一套五段式气体可微调的分布管组成,整体管路系统设置在一个挤压成型、一端有细长矩形开口的铝型腔内。其中气体输运管路的气体流量由流量控制器调整,流量控制系统通过PLC实现气体流量的精确控制。应用FLUENT软件对布气结构进行建模,进行气体分布的模拟分析,通过探寻喷嘴数量、喷嘴截面积、铝型腔开口宽度等参数与气体分布的规律,优化了布气装置,实现了溅射室气体的均匀分布。
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