真空技术在高纯金属碲生产中的应用

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高纯金属碲是一种重要的半导体材料,可用来配制化合物半导体,广泛用于红外、激光及制冷半导体。针对以4N 工业碲为原料生产5N 高纯金属碲,采用真空蒸馏法杂质 Se 难以去除的难题,提出了结合4N 工业碲生产工艺,采用 TeO2真空脱硒——造液电解——电解碲熔铸——真空蒸馏新工艺。研究结果表明,碲碱浸液中和得到的 TeO2经400~430℃真空(13.33Pa) 处理4小时,TeO2中硒含量由0.30%降至0.0068%。脱硒后的 TeO2,造液电积得到的4N 工业碲含0.0001%Se。电解碲熔铸后再经550±30℃(300±50℃冷凝)20±15Pa 一次真空蒸馏,5N 高纯碲的成品率为91.95%,回收率达99.76%。
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