【摘 要】
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光刻胶的性能是紫外纳米压印中决定压印图形复印精度、图形缺陷率和图形向底材转移时抗黏性的重要影响因素。目前,传统的紫外光固化体系通常易于黏附底材,不容易脱模,造成压
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光刻胶的性能是紫外纳米压印中决定压印图形复印精度、图形缺陷率和图形向底材转移时抗黏性的重要影响因素。目前,传统的紫外光固化体系通常易于黏附底材,不容易脱模,造成压印图形缺陷;固化前后体系体积收缩,导致图形复印精度降低[1,2]。本文采用聚氨酯丙烯酸酯（PUA）、环氧树脂（EP）和含氟丙烯酸酯（FA）为主要原料,制备得到复合聚合物光刻胶。红外光谱（IR）,扫描电子显微镜（SEM）和X-射线光电子能谱（XPS）等表征手段证实了含氟丙烯酸酯在表面含量较高,这说明FA在光固化过程中向表面发生迁移。通过对PUA、EP和FA配比的改变实现对复合聚合物的收缩率和分离力的调控。随着FA加入浓度的增加,分离力逐渐下降,但是体系的柔韧性降低,收缩率增加。当加入量为10%时,分离力降到最小,仅为0.5 N;含量超过10%,压印胶层发生脆裂。实验结果表明,当FA含量在9%附近,在没有对石英模板表面进行修饰的情况下,该光刻胶表现出高保真度、高图形转移分辨率和高脱模能力,有效减少了紫外纳米压印工艺中的模板抗黏修饰的工艺步骤。
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