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为深入研究木霉菌促进木本植物生长、改善抗逆性与增强光合能力的具体机理,本论文以山新杨组培苗移栽盆土中后30 d龄的树苗为材料,以未处理的树苗为对照组(CK),盆土中浇施木霉分生孢子悬浮液为处理组(T),将处理后的山新杨树苗培养到30 d和60 d,研究其响应木霉菌处理对后期的生长状况、抗逆性相关生理指标、光合特性和激素水平的影响。主要研究结果如下:1.木霉处理后,T组株高、叶片数、地径均高于CK组,株高和地径在40 d时出现显著差异,而叶片数在30 d时出现显著差异。结果表明,木霉菌能够促进山新杨生长。2.抗逆性相关生理指标检测结果发现,木霉处理30 d时,T组丙二醛含量比CK组低,但没有显著差异;处理60 d时,T组丙二醛含量是CK组的1.06倍,出现显著差异。木霉处理30 d后,T组山新杨叶片POD活性显著高于CK组,SOD、CAT、APX和PPO活性均比CK组略高,但无显著差异;木霉处理60 d后,T组山新杨叶片的SOD、CAT和APX活性比CK组高,无显著差异,而POD和PPO活性比CK组低,也无显著差异。木霉菌能够在一定程度上提高山新杨叶片相关防御酶活性来增强抗性,但本研究结果表明,在温室浇施木霉60 d内,由于无外界较强的逆境影响,其抗性增强的不明显。2.光合相关指标检测发现,木霉处理后,30 d时,T组叶片的叶绿素a、叶绿素b和总叶绿素含量显著高于CK组;60 d时,T组叶片的总叶绿素含量显著高于CK组,结果表明木霉菌能够有效促进山新杨光合色素的积累。木霉处理30 d后,T组山新杨树苗叶片的Amax、AQE、Cond、Ci和Tr比CK高,但差异不显著,而Pn显著高于对照组。木霉处理60 d后,T组树苗叶片的Amax、AQE、Pn、Cond、Ci和Tr均显著高于CK组。结果表明木霉能够提高山新杨的光合能力和对弱光的利用率来促进其生长。通过对叶绿素荧光参数分析,发现木霉处理后,Fo值均低于CK组,说明在移栽后期山新杨叶片中的PSⅡ反应中心活性较稳定,未受到破坏。在本实验中,不同处理的最大荧光(Fm)未受到显著影响。ETR、qP、NPQ、φPSⅡ指标均有所增加,同时φNO指标降低,结果表明,木霉菌能够增强山新杨叶片PSⅡ的活性,提高光保护能力。3.内源激素相关指标检测发现,木霉浇施山新杨根际土 30 d后,其叶片内源激素含量发生明显变化,IAA含量显著低于CK组;SA含量显著高于CK组;JA、GA3和ABA含量比CK组高,但差异不显著。木霉浇施山新杨根际土 60 d后,IAA含量降低,但差异不显著;SA和GA3含量显著高于CK组;JA和ABA含量比CK组高,但差异不显著。本研究结果表明,在山新杨根际浇施木霉菌后可改变山新杨5种内源激素的水平,并且随着时间的延长,5种激素含量变化由提高抗性的趋势转变为有利于植物生长,这与我们测量的生长量指标变化的规律相一致。