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本文采用磁控溅射法制备了NdFeB单层膜以及NdFeB/Co交替多层膜,利用SEM、AFM、XRD、VSM、SQUID等方法,测定了薄膜的厚度、表面形貌、相结构和磁性能等,同时分析了调制结构和退火工艺对NdFeB/Co交替多层膜的微观结构及磁学性能的影响。结果显示,薄膜的沉积速率随磁控溅射功率的增加而增大,随溅射气压的升高先增大后减小;薄膜厚度与溅射时间近似成正比;形貌分析显示,沉积速率是薄膜表面质量的关键影响因素。后续退火可以使溅射态非晶的NdFeB/Co多层膜晶化出Nd_2Fe_14