湿法介质研磨技术是广泛应用于药物纳米制剂的制备技术之一，通常应用于口服、注射、吸入和口服等制剂的生产工艺。该技术具有适用性强、载药量高，无有机溶剂残留，生产效率高等优点，故成为常见的、应用于多种水难溶性药物的纳米制剂的制备技术。但是，研磨过程所产生的高能量容易引起原料药物晶型的转化进而发生转晶现象，甚至破坏原料药的晶型使之成为无定形状态，就会在一定程度上影响晶型药物制剂在贮藏过程中的稳定性和药效性质。因此，采用湿法研磨制备纳米混悬液的过程中，原料药物晶型稳定性及辅料的种类和使用方法成为值得关注的研究领域。
　　本课题以非甾体抗炎药-阿西美辛（Acemetacin，ACM）为模型药物，利用热台显微镜、差示扫描量热仪（DSC）及X-射线单晶衍射（XRD）等方法，对所制备的含不同空间型稳定剂[羟丙甲纤维素（HPMC）、羟丙纤维素（HPC）、聚维酮K30（K30）、共聚维酮VA64、聚乙烯已内酰胺-聚醋酸乙烯酯-聚乙二醇接枝共聚物（Soluplus○R）]的ACM纳米制剂的晶型状态及结晶度进行测定和分析，重点研究了五种空间稳定剂在纳米研磨过程中对ACM晶型稳定性的影响。研究结果简述如下：（1）ACM在研磨和储藏过程中晶型不稳定，易转为阿西美辛一水合物（ACM?H2O），原结晶度也有所下降；（2）在90min研磨过程中，含VA64的纳米混悬剂中ACM全部转为ACM?H2O；含Soluplus的混悬剂在研磨过程中ACM逐步转晶，同时存在ACM和ACM?H2O；而含有HPMC、HPC、K30的制剂在研磨过程中晶型保持较好，无转晶；（3）在两种条件的放置稳定性（25℃30天，60℃15天）实验中，以HPMC为稳定剂的纳米混悬液依然保持较高水平的ACM的原晶型，而以其他高分子辅料作为稳定剂的混悬液中ACM均已转晶（ACM?H2O）。综合评价使用以上五种稳定剂制备纳米制剂，对晶型的保护效果按优劣排序为：HPMC＞HPC＞K30＞Soluplus＞VA64。
　　本课题还考察了以上五种空间型稳定剂在研磨和储藏过程中对制剂中药物粒径大小、粒径分布、Zeta电位等关键质量指标的影响。研究结果表明（1）使用这五种稳定剂湿法介质研磨后，ACM药物的粒径均能降至500nm以下，符合纳米制剂的要求；（2）贮藏稳定性HPMC和VA64的纳米制剂最稳定，而HPC和K30的纳米制剂的稳定性较差。
　　本项研究还对使用K30为稳定剂制备的纳米制剂进行了研究，对两种晶型的ACM制剂进行了体外评价，实验结果表明纳米混悬液可提高药物的溶出速率，但转晶后的一水合物的溶出速率减慢，进而可以得出保持ACM的晶型在药物制剂的过程中是非常必要的。
　　综上，本课题利用湿法介质研磨技术制备ACM纳米制剂，重点研究了该药物在纳米研磨技术中晶型稳定性、晶型转换过程及晶型质量控制的方法，旨在为其他类似药物在纳米研磨工艺中稳定剂的选择提供参考。