随着半导体激光器泵浦固体激光器技术的应用及发展,要求有更高功率的泵浦用半导体激光器,而激光薄膜的性能也一直是限制向更高能量或更高功率发展的瓶颈之一。所以制备低光学损耗的高性能激光薄膜有较大的科学和应用价值。我们的工作就是设计并制备适用于808nm波段的高功率准连续的量子阱激光器的高反射膜和输出半反射膜,保证激光器有良好的输出特性。 我们通过理论和实验总结出:研制高性能激光器腔面薄膜的关键在于优化膜系设计和低光学损耗的薄膜材料,主要工作从以下几点展开: 1、根据激光器的波长、功率等特性,选取了几种适宜的常规薄膜材料和一种混合膜料;提出了薄膜的设计要求:吸收、散射损耗小,激光损伤阈值高,以及高反射膜和输出半反射膜的反射率要求。 2、从薄膜理论出发,设计了非规整单层SiO₂膜和双层GZrO₂SiO₂A输出半反射膜;分析了高反射膜系中的驻波场分布和吸收散射等光学损耗,将G（LH）^sA和G（HL）^sHA两种反射膜系进行了比较。 3、利用现有的国产蒸镀设备,采用真空热蒸发成膜技术,在膜料加工,基片加工和镀制工艺上都对降低腔面薄膜的光学损耗进行了探索。并结合理论分析和分光光度计等测试手段,经过分析比较,最后确定采用双层GZrO₂SiO₂A作为输出半反射膜。而高反射膜系,经过对比混合膜料和常规膜料所成薄膜的反射率和表面形貌等,发现混合膜料无论是从成膜的微观结构、反射率还是薄膜缺陷等方面均优于常规的单一组分的氧化物材料,所以采用混合膜料和氧化硅交替沉积的G（HL）^sHA膜系。 我们通过反复实验,镀制出反射率达到99.501%的高反射膜系和反射率达10.08%的双层GZrO₂SiO₂A的输出半反射膜,符合我们的设计要求,同时也能实现工艺上重复性和可靠性较好的批量生产。并且应用到单管激光器上,在其中心波长附近输出特性良好,达到了比较满意的效果。