随着微纳科学的蓬勃发展，现代科学和技术对于器件的微型化、集成化要求越来越高，高精度微纳器件的精细加工技术越来越受到人们的关注。目前半导体元器件和微结构加工中应用最为广泛的传统光刻技术由于光学衍射极限的存在，使其分辨率存在无法突破的极限。表面等离子激元具有近场局域增强和纳米聚焦的优异特性,为突破衍射极限的高分辨率光刻技术开辟了一条新的途径。本文提出了一种利用偏振光操控的表面等离子激元超分辨纳米结构产生和等离子激元干涉光刻技术。得到如下主要结果：（1）通过设计合适的二维光栅周期和控制入射光的偏振态，满足表面等离子激元的波矢匹配条件，可实现多模式表面等离子激元超分辨干涉。当表面等离子激元波矢满足四模式匹配条件时,我们可通过改变线偏振光的偏振角度得到一维光栅结构或二维点阵结构，即不改变位相模板，仅通过改变入射光的偏振状态实现纳米结构调控；如果用圆偏振光代替线偏振光可以进一步提高纳米点阵的周期。（2）当表面等离子激元波矢满足六模式匹配条件时，可以通过改变线偏振入射光的偏振方向获得更复杂的纳米结构和周期性排布方式。当入射光为圆偏振光时，得到类似圆环形的亚波长纳米结构。这一结果表明，通过改变光栅结构周期可获得更多模式的表面等离子激元干涉，从而实现更复杂的二维纳米结构。这一特性为制作亚波长纳米结构提供了新途径和思路。