【摘 要】
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本文研究的主要目的是开发空间保护薄膜材料。论文介绍以石英片为基底材料,采用直流/射频磁控共溅射方法制备了非掺杂、掺Al和掺Ti的氧化钒薄膜,重点探索了用这种方法制备非
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本文研究的主要目的是开发空间保护薄膜材料。论文介绍以石英片为基底材料,采用直流/射频磁控共溅射方法制备了非掺杂、掺Al和掺Ti的氧化钒薄膜,重点探索了用这种方法制备非掺杂、掺杂氧化钒薄膜的工艺条件,发展了一种用反应气体和溅射气体的流量比例来控制薄膜组分的新方法。对所制备的氧化钒薄膜进行了热光性能测试。实验及测试结果表明,二氧化钒在68℃附近发生相变,相变前后电学、光学性质剧烈变化。在二氧化钒薄膜中掺入Ti杂质或Al杂质,对薄膜的热光性质改变所起的作用比较明显。掺入Ti杂质可以减小相变滞豫区间,掺入Al杂质则会明显提高相变温度。磁控共溅射沉积方法在掺杂薄膜的制备方面显示出良好的灵活性和可控性。
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