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氧化锌(ZnO)是一种宽带隙(室温下3.3eV)Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体,激子结合能为60meV,具有六方纤锌矿结构。晶格常数a=0.3249nm,c=0.5206nm。ZnO薄膜具有良好的透明导电性、压电性、光电性、气敏性、压敏性、且易于与多种半导体材料实现集成化。本文实验所采用的磁控溅射法,在最佳条件下可以得到均匀、致密、有良好的c轴取向性和可见光波段透明性好等优点的薄膜,使得它成为在ZnO制备中研究最多并且最广泛使用的方法。最近,由于在光电领域的潜在应用,ZnO薄膜及其形貌特征得到了广泛的关注。表