氟硼二吡咯(Boron dipyrromethene,简称BODIPY)类荧光染料具有一些优异的特性：如较高的荧光量子产率和摩尔消光系数；良好的光稳定性；对极性和pH环境不敏感；具有尖锐的紫外吸收和荧光发射峰,以及易于进行化学修饰等,被广泛应用于激光染料、能量转移盒、荧光分子开关、接收天线、太阳能电池和光敏试剂等领域。本论文通过对BODIPY的骨架结构进行修饰,得到一系列新型染料分子,研究了其光谱性质,初步研究了这些染料分子作为潜在新型光敏剂分子的应用价值。具体内容如下：1.利用吡咯位无取代基的BODIPY1与溴素逐步亲电取代反应,以较高产率合成了高区域选择性溴化产物BODIPYs2-3,并通过区域选择性亲核取代和Suzuki偶联反应对溴化产物进行进一步功能化,以较高产率制备了一系列新型BODIPYs4-7。在此基础上,研究了所合成染料分子的光谱性能,分析了溴原子数对染料分子的相对单线态氧产率的影响。同时,还对BODIPY骨架的溴化及后续修饰衍生反应的区域选择性进行了研究,发现BODIPY骨架的逐步溴化及溴化产物的后续亲电取代反应发生的顺序为：先2,6-位,再3,5-位,最后1,7-位；而溴化产物的区域选择性亲核取代反应：首先发生在BODIPY骨架的3,5-位,然后在1,7-位。2.通过对课题组所开发的p-甲酰基BODIPY进行修饰衍生,设计合成了一系列meso-β/meso连接的联BODIPYs2a-i。通过核磁、单晶衍射等对其结构进行了表征,研究了这些联BODIPY的光谱性能和其单线态氧产率,并通过磷光光谱测试出部分联BODIPY2的光动力学曲线。在此基础上,分析比较了联BODIPYs2a-d的两个BODIPY子单元空间构型对其光谱性能和单线态氧产率的影响。