本论文以提高Ni-AlN太阳能选择性吸收涂层的光学性能和高温稳定性为目的，采用离子束辅助沉积技术制备了AlN膜、不同镍含量Ni-AlN复合膜和Ni-AlN选择性吸收涂层，研究了AlN膜和不同镍含量Ni-AlN复合膜的制备工艺、成分、结构、光学性能和高温稳定性，在光学薄膜优化设计基础上制备了4层结构Ni-AlN选择性吸收涂层并研究其高温稳定性。结果表明：N⁺/Al=1.4条件下制备的AlN膜含有金属Al，n、k值随着波长的增加而增加，透过率为零，体现了金属陶瓷特性。N⁺/Al≥1.8条件下制备的AlN膜只有AlN和少量的AlO_xN_y且表面光滑致密，n、k值随着波长的增大而减小，薄膜在300-2500nm的平均透过率≥74.5%，体现了电介质的特性。未退火的AlN膜主要成分是AlN。空气中600℃退火后AlN膜表层主要成分AlN、AlO_xN_y和Al_xO_y，随着退火时间的延长，表层氧化越严重。退火时间≥64h的样品表面粗糙度增大。随着退火时间的延长，薄膜表面的漫反射率增大，退火后AlN膜的光学常数保持不变。镍靶溅射束流≤40mA，Ni-AlN膜主要成分是AlN，N/Al原子比接近理想化学计量比；镍靶溅射束流≥60mA，Ni-AlN膜中的金属Ni和AlNi₃增多，AlN减少，N/Al原子比随着镍靶溅射束流的增大而增大，偏离理想化学计量比。消光系数随着镍靶溅射束流的增大而增加，薄膜的电介质特性减弱，金属性增强。退火后Ni-AlN膜发生氧化导致其表面形貌发生变化。根据光学薄膜优化设计结果，制备的4层结构Ni-AlN选择性吸收涂层的吸收率为0.83，发射率为0.13（82℃）。退火后涂层的吸收率为0.92，发射率为0.08（82℃）。涂层吸收率和发射率变化的原因为涂层的氧化和层间扩散。