射频反应磁控溅射ZnO薄膜能带工程相关问题研究

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ZnO具有纤锌矿晶体结构,禁带宽度为3.37eV,激子束缚能为60meV,可以实现室温下的激子发射。氧化锌作为新一代的宽带半导体材料,具有广泛的应用,如:ZnO薄膜可以制成表面声波谐振器,压电器件,GaN蓝光薄膜的过渡层以及透明导电膜等。在ZnO光电特性研究中,制备结型器件是ZnO薄膜实用化的关键。而实现ZnO基结型器件的前提也自然成了这一领域关注的焦点,即:ZnO可靠p型掺杂的实现和ZnO能带的调节。 本文采用RF反应磁控溅射方法在Si(100)和石英衬底上生长了Zn
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