烧结碳化硅具有超硬耐磨、优良的抗氧化特性、耐化学腐蚀特性、高热传导率以及良好的耐热性,然而碳化硅作为陶瓷材料,具有硬度高、脆性大、对缺陷敏感、抗冲击性能较差等缺点,因而阻碍了碳化硅在高精度空间光学系统中的应用。现行的几种精密研抛方法都存在着加工表面较差或材料去除率较低等缺点。振动辅助电化学机械抛光技术在电化学抛光的基础上添加振动装置以提高抛光效率和抛光质量。本文对振动辅助电化学抛光烧结碳化硅的过程进行温度场、流场、电场的仿真分析以及实验研究,探究不同工艺参数及实验条件对研抛结果的影响情况,为解决碳化硅平面镜高效加工问题提供技术和理论依据。建立碳化硅试件与抛光盘的接触模型,利用COMSOL Multiphysics软件和经典传热学的相关理论,对水平往复振动辅助抛光的瞬态运动进行了建模,应用参数化扫描分析法对频率、振幅、载荷等变量进行有限元计算和分析,得到各个变量对试件和抛光盘表面温度分布的影响规律。建立碳化硅试件与抛光盘加工区域的流场、电场模型,利用COMSOL Multiphysics软件对流场及电场进行仿真分析,使用参数化扫描法,得到了频率、振幅及抛光垫对流场的影响规律;以及不同电导率的研抛液、外加电场对抛光区域电场的影响规律。完成振动辅助电化学抛光实验机的设计、加工、安装、调试,并对试件与抛光盘的相对滑动轨迹进行分析;数控控制系统可以使实验台进行圆平动,并可以设置圆平动的半径、速度及运动时间;数据采集系统可以实时采集、显示、保存三向力与摩擦系数。利用振动辅助电化学抛光实验机实施了研抛实验并采集到了有效的实验数据,对比分析实验数据,得到了研抛液成分、振动辅助以及外加电场对研抛过程中的摩擦特性与材料去除率的影响规律。