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近年来, TiO_2材料因其在光催化、气敏、光电等领域有广泛的应用,引起了众多学者的关注。由于TiO_2薄膜材料的结构及吸收边缘对其光催化性能有重要的影响,故作者主要从薄膜结构和光学性能两方面开展研究。作者采用脉冲激光沉积(PLD)方法,在硅衬底和石英衬底上制备了TiO_2薄膜。然后利用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和紫外可见光光度计对TiO_2薄膜的结构和性质进行了研究。试验结果表明,退火温度对薄膜的结构有显著的影响,经300℃退火后薄膜保持非晶状态,经500℃退火后的薄