光刻是微电子制造工艺的核心步骤，光刻机是决定微电路图形线宽等关键参数的重要设备，193nm光刻机是国家重大专项项目之一。为了保证光刻成像精度，需要对光刻机曝光光源物镜实现±0.01℃精度的超精密温控。为此，我们研究光刻机的水循环精密温控系统。本文主要针对水循环精密温控系统中的监控子系统进行设计，内容包括PLC对温控对象数据的采集和底层通讯，本地端HMI监控软件的设计，远程端PC监控软件的设计。论文首先阐述了温控电路、水路总体方案原理。温控数据采集自Pt100温度传感器（核心的传感器）、液位传感器、流量传感器、漏液检测传感器等，以PLC为中枢进行信息处理，依靠主要控温器件——温控仪实现温度控制，对泵、阀等执行器进行闭环操作，从而实现高精度的温度控制。其次，论文针对监控子系统的下位机软件通讯进行了设计。其中分析了PLC的232IF模块通信协议，其与温控仪的通信协议，解释了通讯命令帧的格式和含义，编写了PLC和温控仪之间的通讯程序，定义了底层监控信息的存储单元。然后，设计了监控子系统的本地监控模块。设计中采用台湾某公司的MT6000系列人机界面产品和EB8000组态软件，通过与PLC和人机界面通讯，搭建了用于本地监控的上位机模块，监控的变量有电磁阀等执行元件、温度曲线、报警故障信号、历史数据库等。最后，为了满足生产研究中的人机分离和远距离操作的要求，又设计了远程端的监控模块，着重对PID参数及故障事件进行监控，主要的监控手段利用双缓冲技术和ActiveX控件扩展技术实现，该模块采用VB6.0编写，基于RS485和RS232协议进行通讯连接。在前面的基础上进行了联机测试，验证了监控软件是可用的。