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本工作采用脉冲激光烧蚀技术,在10 Pa的Ar气环境下,沉积制备了一系列纳米Si薄膜,并利用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、x射线衍射(XRD)仪、拉曼散射(Raman)仪,对其表面形貌、晶态成分等特性进行了分析和表征。通过调整激光能量,研究薄膜特性对激光能量密度的依赖关系,进而确定激光能量密度阈值,结果表明,随着激光能量的减小,薄膜中晶粒的数量不断减少,当激光能量密度小于0.43 J／cm2时,衬底上没有纳米Si晶粒形成；研究了激光脉冲频率对薄膜特性的影响,发现当脉冲激光频率低于