随着光学技术的发展,对光学元件的面形精度和表面粗糙度提出了越来越高的要求。同时随着大型光学系统的开发和研制,对大尺寸高精度的光学元件需求越来越大。因此,对大尺寸精密光学元件的加工和检测具有重要的意义。本文阐述了超精密光学元件加工及检测的研究内容、目的、背景及国内外研究概况。从理论和实验两个方面对连续抛光技术进行了研究。首先分析了连续抛光中各参量对抛光效果的影响,总结了连续抛光技术的主要问题,通过实验具体分析了抛光过程中抛光盘硬度、抛光时间和温升三个参量对抛光精度的影响,并结合单晶硅抛光特点,改良技术,编排合理的实验路线,连续抛光得到的单晶硅反射镜基底平面PV值为0.403λ,表面粗糙度（RMS）为0.456nm,达到了超精密加工的要求。同时,介绍了超精密光学元件的各种检测方法。针对高能激光系统中高反射率腔镜的反射率测量问题,着重对光腔衰荡技术进行了概述和研究,介绍了光腔衰荡法测反射率的原理,讨论了一些主要误差因素对测量精度的影响。并设计建设了一套高反射率检测装置,使用直型腔和折叠型腔对φ300mm的单晶硅高反镜在1319nm波长的反射率进行测量,通过对实验的误差分析,直型腔和折叠腔测量的相对误差可以精确到10^-5。