目的:观察局部应用地塞米松(Dex)对面神经损伤后再生修复的影响方法:健康雌性SD大鼠63只,建立大鼠面神经横断伤后端端吻合模型,随机分为NS对照组、Dex 2mg组和Dex 5mg组,分别将浸泡于浸泡NS、2mg/ml(B组)及5mg/ml(C组)地塞米松磷酸钠溶液至饱和后的明胶海绵敷于吻合口处。术后1、2、3、7天取远端近吻合口处神经行劳克坚牢蓝染色,光镜下观察髓鞘;术后2,4,8周光镜下(锇酸染色)观察远端相同部位神经再生情况并进行轴突计数;术后8周行电生理检测。结果:光镜下观察术后第1天髓鞘形态变化不明显,面积与正常髓鞘间差异极显著(p＜0.01);术后第2天出现明显变性崩解;至第3天崩解加快,第7d已见不到完整的髓鞘,仅余部分髓鞘碎片。三组间髓鞘残余无显著性差异(p＞0.05)。术后2周,各组均出现新生髓鞘,Dex两剂量组新生髓鞘较对照组成熟晚,三组间轴突计数无统计学差异(p＞0.05)。术后8周,三组间电生理检测结果差异不显著(p＞0.05)。结论:本实验条件下,局部应用小剂量地塞米松对髓鞘清除速度、轴突再生数量及神经电生理功能没有明显影响,但可使髓鞘成熟时间延迟,提示Dex可能会抑制面神经再生。