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芳香族聚酰亚胺具有许多优异的性能,尤其在高温的环境中,如高耐电性能、强力学性能和高耐辐射性能,其作为一种功能材料已广泛应用于航空航天及微电子领域。近年来,随着电机工业的迅速发展,高频电机与高压电机相继出现,这对电机用绝缘材料的性能要求达到了新的水平,不仅仅是高的机械强度、高模量和热稳定性,对耐电晕性能也提出了更高的要求,变成了性能指标中的一个重要因素。虽然纯聚酰亚胺的耐电晕性能比较好,但在应用中还远远不够。无机材料比有机材料具有更好的耐电晕性,故高聚物与无机材料之间的纳米复合,将有望提高高聚物的耐电晕性。目前,在高聚物/无机纳米杂化材料耐电晕性方面的研究工作还不多。本论文制备了聚酰亚胺/无机纳米杂化耐电晕薄膜,研究了其结构、形态和性能,并对三者的关系进行分析。本文采用均苯四甲酸二酐(PMDA)及 4,4’-二氨基二苯基醚(ODA)为基本原料,以N,N’-二甲基乙酰胺(DMAc)为溶剂制备聚酰胺酸(PAA)溶液。由于纳米粒子的表面能很大,易团聚和二次团聚。为了解决这个问题,我们采用了超声机械共混法,使球型nano-SiO2、孔型nano-SiO2和nano-Al2O3均匀分散在聚酰胺酸胶液中,按照一定工艺要求制备聚酰亚胺/无机纳米杂化薄膜。红外光谱(FT-IR)表明高聚物与纳米粒子之间有相互作用;原子力显微镜(AFM)结果表明杂化薄膜中无机纳米粒子分散均匀,且平均粒度在30nm左右;耐电晕实验结果表明聚酰亚胺/纳米SiO2杂化薄膜比未杂化聚酰亚胺薄膜的耐电晕性好,而且随着纳米SiO2含量增加其耐电晕时间增长。另外,本文还对耐电晕老化机理进行了尝试性的探索分析。