光子晶体是一类在光学尺度上具有周期性分布的人工电磁介质材料,它能够有效调控光子的运动，将为光信息技术、集成光子器件的发展开创新的领域。光子晶体巨大的应用前景掀起了世界许多著名实验室的研究热潮。随着微加工技术的不断发展，激光全息光刻技术作为一种高效、快捷的制备光子晶体新方法，越来越受到人们的重视。研究如何利用激光全息技术来制作光学波段光子晶体并开展相关的应用研究将具有重要的意义和价值，也将为微纳结构的设计和制备开拓更广阔的科研领域。本论文主要开展激光全息光刻技术进行光子材料微制作以及特性表征研究。采用激光全息光刻技术制备了一维层状光子晶体和缺陷模层状复式结构。往所制作结构中进行了荧光染料的有效掺杂，研究并分析了带边激射现象和机理。通过激光全息理论计算模拟了二维复式结构并实现了实验室制备和表征。论文主要研究工作包括下述几个方面：1、阐述了激光全息干涉原理；利用激光全息光刻技术在DCG干板上制备了具有优异带隙品质的一维层状光子晶体，光子带隙的位置随入射角的增大发生红移；采用两步曝光技术，在样品的曝光重叠区域获得了缺陷模层状复式结构，样品具有典型的缺陷模带隙品质。2、计算机模拟实现了二维复式结构光子晶体。利用非对称的6束线偏振光光束配置，采用CHP-C正性光刻胶开展了实验制备，获得了大周期的六边形和小周期六角点阵嵌套的二维复式结构，结构的大周期常数随非相邻三束光方位角偏转幅度的增大而减小。3、在DCG制备的层状光子晶体中实现了有机荧光染料均匀掺杂，实验研究并分析了不同发光染料掺杂不同带隙光子晶体的带边激射现象。实验结果得出染料荧光峰位置与样品带隙边缘越接近越容易获得激射，带隙宽度较大的样品激射阈值较低。