自倍频激光晶体同时具有激光及非线性光学性质,可在单个晶体器件中完成激光和倍频过程。该类晶体制备的激光器具备结构简单、体积小、稳定好等优点,可满足现代化信息社会对高集成光电器件的需求。通过在自倍频晶体表面镀制光学薄膜,可以更有效地耦合并匹配自倍频效应,从而使新波长激光的输出成为可能。基于Yb:LCB的特性,由976 nm光激发LCB晶体产生1180 nm拉曼光,通过在谐振腔内振荡1180 nm可倍频得到590 nm激光。国内外在LCB晶体生长及应用方面做了较多的研究,但关于LCB晶体镀膜相关的研究鲜有报道。本文依据LCB晶体特性和光学薄膜基础理论,选择Ta2O5和Si O2作为镀膜材料,对谐振腔初始膜系进行了讨论与设计。分析重复周期数和干涉级次对光谱特性及电场强度分布的影响规律,完成谐振腔膜系的设计与优化,并采用离子辅助真空沉积技术对薄膜进行了研制。结合表面缺陷特点及沉积工艺分析Ta2O5薄膜表面喷点问题,发现其预熔过程中除气不充分,易发生喷溅,形成表面缺陷。通过建立路径模型并优化电子束路径,确保电子束有效运行轨迹覆盖住整个坩埚材料表面,材料得以较充分预熔,减少了薄膜表面缺陷。研究Ta2O5薄膜材料的折射率、表面粗糙度与离子源偏压的关系。随着偏压从90 V增大到140 V,折射率先增大,到一定程度后不再明显,薄膜粗糙度先逐渐减小,然后有增大趋势。采用光学监控和石英晶控相结合的方式,即光控监测薄膜厚度,晶振监测沉积速率,使膜系各膜层厚度得以精准控制。测试单面镀膜LCB晶体透过率光谱,输入面在560～590 nm平均反射率为R=99.68%,970～1100 nm平均透射率为92.98%,1120～1180 nm平均反射率为R=99.78%。输出面在560～590 nm平均透射率为T=92.55%,970～985 nm平均反射率为R=99.75%,1020～1100 nm平均透射率为T=92.17%,1130～1180 nm平均反射率为R=99.79%,制备的Yb:LCB晶体器件实现了毫瓦级590 nm激光输出。