浸没式光刻是在干式光刻技术的基础上,将投影物镜与硅片之间填充上折射率较大的液体来代替原来的空气,使系统的分辨率得到提高的一种光刻技术。浸没液体的引入虽然提高了分辨率,但也带来了一些其他问题。浸没液体作为光学系统的一部分,要保持其光学性质的均一、稳定,这就对浸没流场的流动提出了要求。本文主要研究了浸没流场结构参数对曝光区流动状态的影响及单侧注液、单侧回收式浸没流场的应力分布。这将为今后浸没流场结构的设计优化与各项参数设置提供有价值的参考。主要研究内容如下:注液口、回收口环形张开角度与宽度非对称变化对曝光区流动状态的影响。在193 nm浸没式光刻流场结构参数的基础上,让注液口、回收口环形张开角度与宽度做非对称变化,通过模拟仿真得出各种注液口、回收口环形张开角度与宽度下曝光区中面的平均速度、速度方差、平均压强、压强方差四项数据,通过对比分析得出最优的注液口、回收口环形张开角度与宽度组合。流场高度与注液压力对曝光区流动状态的影响。在最优的注液口、回收口结构参数的基础上,继续研究了流场高度与注液压力对曝光区流动状态的影响。通过数值模拟得到在不同流场高度与注液压力下,曝光区中面液体流动的平均速度、速度方差、平均压强与压强方差四项数据的变化情况,通过综合分析得出流场高度与注液压力对曝光区流动状态影响的规律。单侧注液/单侧回收式浸没流场物镜下表面应力分布研究。通过模拟仿真研究单侧注液/单侧回收式浸没流场投影物镜下表面切应力与正应力随注液速度、扫描速度、流场高度、液体粘度的变化规律,可以对浸没流场各项参数控制提供参考。并推导了流场内物镜下表面切应力的理论公式与仿真结果做对比,变化趋势相同。