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本文研究了制备工艺对在纯铝基片上化学镀Ni-Co-P合金磁性薄膜的结构和磁性能的影响，以及热处理工艺对在纯铝基片上化学镀Ni-P／Ni-Co-P合金磁性薄膜的结构和磁性能的影响。对热处理引起薄膜结构和磁性能改变的机制进行了分析和探讨，为提高磁性记录材料的记录密度提供了理论分析和实验数据。取得的结果可归纳如下：(1)制备了缓冲剂浓度分别为0.1mol／L、0.2mol／L、0.3mol／L、0.4mol／L、0.5mol／L的一系列Ni-Co-P磁性薄膜。结果表明：随着缓冲剂硫