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电子束曝光技术是目前制造亚微米高分辨率微细图形掩模的主要手段.该文主要研究Ee<->BES-40A型光栅扫描电子束曝光机工件台控制扫描系统的工作原理和控制方式,主要包括工作台定位控制、激光测量及位置补偿、与图形扫描的配合等控制接口和相应软件部分.
光栅扫描电子束曝光机工件台控制扫描系统
【摘 要】
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电子束曝光技术是目前制造亚微米高分辨率微细图形掩模的主要手段.该文主要研究EeBES-40A型光栅扫描电子束曝光机工件台控制扫描系统的工作原理和控制方式,主要包括工作台定
【机 构】
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山东大学
【出 处】
：
山东大学
【发表日期】
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2002年期
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