TSVL<*>级40％的氢氟酸是应用于大规模集成电路的一种超净高纯试剂.在集成电路中用于清洗、腐蚀剂.该文对超净高纯试剂TSVL级40％的氢氟酸的生产、提纯及分析作了介绍.并重点研究了如何降低砷杂质含量的方法.大胆地引用了无水氢氟酸的提纯方法,应用于氢氟酸水溶液的提纯,得到了满意的效果,对选择适当的氧化剂做了大量的实验,确立了一条最佳的除砷路线.即采用过氧化氢做氧化剂,对40％的氢氟酸内所含的砷杂质进行氧化用以改变砷杂质的价态,使砷杂质转变为易挥发物质移出体系再通过蒸馏,达到提纯目的,然后进行微滤达到颗粒净化,使产品达到超净高纯.基本工艺路线:用钢瓶装工业优级无水氟化氢,气化后通入高纯水中,吸收到含量达40％以上,加入过氧化氢对其处理后再进行蒸馏,并在净化间内进行微滤,得到40％的超净高纯氢氟酸.使单项阳离子杂质及砷杂质达到10ppb以下,大于 0.5 μ m 颗粒小于25个/ml.