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增加硬盘的信息存储量就必须提升硬盘的记录密度,而记录密度的提升过程中必然伴随着矫顽力升高,这势必会导致数据读写的困难,因而给磁头材料带来新的挑战。对于高密度读写磁头,除了要求其具有高饱和磁化强度以便能在高矫顽力的介质上实现数据写入外,还要有低的矫顽力,以减小写入时的热噪。目前所使用的高密度磁头多是以Fe-Ni合金薄膜磁头,或是以Fe-Ni薄膜磁头为基底的多层薄膜磁头。因而如何提升Fe-Ni合金薄膜的结构和性能将会成为硬盘面密度增长瓶颈的新突破点。在众多薄膜的制备技术当中,分子束气相沉积技术因