钨是一种重要的稀有金属,因其具有高密度、高熔点、高硬度等优点,在现代工业中处于举足轻重的地位,为了更好的利用钨其优良的金属特性,人们通常以钨为基加入其它金属元素组成合金。钨及其合金广泛应用于电子、国防、航天、汽车等工业,是一种重要的功能材料。在钨及其合金的冶炼和应用中,需要实时精确的获取其表面温度,在高温坏境中,由于接触式测温的局限性,通常运用辐射测温的方法来测量金属实时的表面温度。辐射测温获取的温度不是物体表面的真实温度,要获取物体表面的真实温度,首先要知道物体准确的发射率数据。光谱发射率是一种重要的热物性参数,它与物体的组份,表面特征,温度,波长及测量方向有关。为了更好的运用钨及其合金等高温材料,发射率方面的研究变得刻不容缓。本文基于实验室自建的发射率测量装置,测量了钨和钨铜合金在573K、673K、773K、873K四个温度下的光谱发射率,测量的波长范围为3-20μm。探究了波长、温度、氧化、加热时间和组分对其光谱法发射率的影响。本文第一章阐述了论文背景,详细介绍了国内外相关工作者对钨及钨合金发射率的相关研究,并指出存在问题与本文研究目的。本文第二章简单介绍了与发射率有关的热辐射基本规律和发射率的定义与测量方法。本文第三章主要介绍了实验室搭建的能量对比法光谱发射率测量装置与实验过程。实验测量装置主要由傅里叶红外光谱仪、标准参考黑体、样品加热系统与光学系统构成,实验选用样品为表面光滑的钨与钨铜合金合金,样品分别在大气环境与充满氩气环境中进行氧化与非氧化测量。本文第四章探讨了波长、温度、氧化、加热时间和组分对钨和钨铜合金的光谱发射率影响,并用辐射干涉理论解释了光谱发射率振荡原因。研究表明:(1)钨与钨铜合金合金的光谱发射率基本随着波长的增加而减小,在波长3-7μm之间都发生了强烈的振荡,有所不同的是钨铜合金的光谱发射率数值在整个测量波长范围都要比钨的光谱发射率数值大。(2)在573K与673K时,钨的光谱发射率基本不随温度的增加而发生变化,在773K与873K时,钨的光谱发射率迅速增加,光谱发射率随波长变化曲线出现明显的波峰与波谷。钨铜合金的光谱发射率在四个温度下随着温度的升高而增加,并且其光谱发射率随波长变化曲线出现了明显的波峰与波谷。(3)在未氧化时,钨与钨铜合金在四个温度下的光谱发射率数值较小,并随着温度的升高增加缓慢,发生氧化后,钨与钨铜合金的光谱发射率迅速增大,并且其随着温度的升高而增加,钨与钨铜合金表面氧化物的生成对其光谱发射率具有极其重要的影响。(4)在573K与673K时,钨的光谱发射率随着加热时间的增加几乎不发生变化,在773K与873K时,钨的光谱发射率随着加热时间的增加而增大,在773K时钨的光谱发射率随加热时间增加的较快。钨铜合金在四个温度下都随着加热时间的增加而增大,在573K时,其光谱发射率随加热时间增加最快。(5)由于组分的不同,钨与钨铜合金氧化后的光谱发射率呈现明显的不同。(6)运用样品氧化膜与基底之间的辐射干涉理论,解释了钨与钨铜合金光谱发射率振荡原因。本文旨在通过对钨与钨铜合金光谱发射率影响因素的研究,获得钨与钨铜合金随波长,温度,氧化,加热时间与组分影响的普遍规律,进一步丰富钨与钨铜合金的光谱发射率研究,为钨及钨铜合金在科学研究与应用中提供数据支持。