论文部分内容阅读
该文设计并制备了(Ti,Al)N/AlN,VN/AlN及(Ti,Al)N/VN三种点阵错配度不同的多层膜体系,并在每一体系中制备了7组不同调制周期的实验样品,采用高、低角度XRD、AFM、HRTEM技术及由该文提出的可准确测量硬质薄膜力学性能的两步压入法等实验手段对多层膜中立方AlN的形成条件、存在方式及共格应力和调制周期对纳米多层膜力学性能的影响进行了研究.