本研究通过不同参数条件在6063铝合金基体上制备了微弧氧化陶瓷膜，并研究了该合金微弧氧化最大正电压与微弧氧化正电流密度、负电流密度、微弧氧化时间、脉冲频率间的关系。 6063铝合金微弧氧化膜恒电流工艺膜的致密程度与膜表面光滑程度主要取决于微弧氧化正电流密度/负电流密度比值、微弧氧化时间、脉冲频率，微弧氧化正电流密度/负电流密度比值越小，微弧氧化时间越短，脉冲频率越小，微弧氧化膜越致密，微弧氧化膜表面越平滑。6063铝合金微弧氧化恒电压工艺，电压越小，膜越致密，膜的表面越光滑。 6063铝合金微弧氧化膜恒电流工艺平均硬度主要取决于微弧氧化膜中α- Al2O3的含量、微弧氧化膜的厚度和微弧氧化膜的孔隙率。微弧氧化膜较薄时，微弧氧化膜硬度主要取决于氧化膜的厚度，而微弧氧化陶瓷膜达到一定的厚度时，影响硬度的主要因素是微弧氧化膜中α- Al2O3的含量和微弧氧化膜的孔隙率。微弧氧化膜中α- Al2O3的含量越高，微弧氧化膜孔隙率越低，微弧氧化膜硬度越高。6063铝合金微弧氧化恒电压工艺，电压越大，微弧氧化膜硬度越高。