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大面积高精度光栅刻划机结构复杂,零部件的误差分配要求极其严格,其加工精度要达到纳米级别,因此任何外部环境扰动带来的影响都可能影响光栅刻划机定位精度和加工精度,必须采取有效的隔振方案减小外部环境振动对光栅刻划机定位精度和加工精度的影响。本文通过调研光栅刻划机工作环境,引入负刚度原理降低光栅刻划机隔振平台的固有频率,采用复合隔振方法对对光栅刻划机随机振动进行了分析。主要研究内容如下:(1)调研光栅刻划机工作环境并分析影响其精度的环境振动因素及其来源和频率范围;根据光栅刻划机定位误差随刻线数目变化确定影响