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有机络合重金属电镀废水中含有大量的重金属金属离子,若不经处理直接排入水体会对生态环境造成很大的破坏。有些电镀废水中也含有大量络合剂,重金属离子与络合剂会形成稳定的鳌合物,不易形成氢氧化物或硫化物沉淀,因此采用传统的化学沉淀法不能有效地去除废水中的重金属离子,使得含络合重金属废水成为电镀废水中典型的处理难点。探索处理此类废水的工艺流程,和最佳的工艺参数是本科研项目的主要目的和研究方向。论文以某电镀厂的含有机络合剂铜镍实际废水为研究与处理对象,采用Fenton或者类Fenton对重金属废水进行破络合处理,然后使用中和沉淀法处理,从废水中去除COD,重金属离子等污染物。考察了废水初始pH、H2O2初始浓度、[Fe2+或Fe3+]/H2O2（铁离子与双氧水的质量比）、反应时间、反应温度、中和沉淀pH值对整个处理过程的影响；然后考虑到普通中和沉淀的处理效果较差与产生金属污泥的二次污染问题,以Fenton破络合的预处理为基础,使用铁氧体共沉淀法对废水后续处理,并探讨了各过程反应机理。通过研究得到以下结论：（1） Fenton破络-中和沉淀对含络合剂铜镍电镀废水进行处理,在系统反应初始pH=3,温度25℃,H2O2初始浓度为4.162g/L,[Fe2+]/[H2O2]=0.2,反应时间为60min,搅拌转速为150r/min,中和沉淀pH=10的条件下,废水的COD去除率为65.38%,Cu2+去除率为99.01%,Ni2+去除率为99.03%。Ca（OH）2作为中和沉淀药剂比NaOH处理效果要好,同样反应参数条件下,COD去除率为80.41%,Cu2+去除率为99.35%,Ni2+去除率为99.68%。（2） Fenton-中和沉淀工艺与类Fenton-中和沉淀可以有效的从有机络合铜镍废水中去除铜镍。对于这两个工艺系统,在最佳的工艺条件：反应初始pH=3,[H2O2]=4.162g/L,[Fe2+或Fe3+]/[H2O2]=0.2,中和沉淀pH值为10,两个工艺对重金属处理去除率相当高,而且由于配体交换机理,类Fenton过程要优于Fenton过程。（3）研究得到后续铁氧体共沉淀过程最佳条件：沉淀pH值=11、曝气流量为25mL/mim、Fe/Me=10、温度为50℃、曝气接触时间为60min。两个工艺对Ni2+去除率分别为99.94%,Cu2+的去除率分别为99.81%。出水Ni2+浓度0.31mg/L,出水Cu2+浓度0.04mg/L,达标排放。（4）用铁氧体共沉淀处理可以得到磁性铁氧体晶体,在最佳的工艺条件下,形成铁氧体晶体,形成的晶体为铁镍矿NiFe2O4,成分分析中有Fe3O4, Cu0·3H2O等物质。这些晶体不仅不会造成二次污染,而且可以作为磁性材料回收利用。