AZ91D镁合金微弧氧化陶瓷膜的制备及其性能研究

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镁合金具有密度小、比强度和比刚度高、减震性好、电磁屏蔽性好等特性,具有广泛的应用前景。然而镁合金较差的抗腐蚀能力是制约其发展的主要因素。为了提高镁合金的防腐性能,必须对其表面进行改性。本论文选取AZ91D镁合金为研究对象,采用脉冲电源,在合金表面进行微弧氧化,并对微弧氧化陶瓷膜的制备及其性能进行了详细研究。本文首先选择出了适合于AZ91D镁合金表面微弧氧化的电解液组成。研究结果发现在铝酸盐体系或硅酸盐体系中能够得到性能良好的微弧氧化膜,其中铝酸盐体系中偏铝酸钠为主成膜剂,氢氧化钠为辅助成膜剂,蒙脱石、EDTA、阿拉伯树胶为性能改善剂;硅酸盐体系中硅酸钠为主成膜剂,氢氧化钠为辅助成膜剂,蒙脱石、EDTA、阿拉伯树胶为性能改善剂。对铝酸盐体系的组成进行了优化实验,选出铝酸盐体系主盐组成:偏铝酸钠30g/L,氢氧化钠20g/L。在此基础上,通过单因素和正交实验系统研究了各添加剂对微弧氧化膜层的影响,获得了较佳的添加剂组成为:蒙脱石3g/L、5%阿拉伯树胶50mL/L。采用单因素和正交实验对采用铝酸盐体系的微弧氧化工艺条件进行了优化研究,获得了较佳的工艺成膜条件为:氧化时间为30min、终止电压为180V、脉冲周期为20ms、占空比为50%。研究了硅酸盐体系各配方的组成,得到最优的主盐组成为:硅酸钠30g/L,氢氧化钠20g/L。通过正交实验系统研究了各添加剂对微弧氧化膜层的影响,获得了较佳的添加剂组成:蒙脱石4g/L、EDTA2g/L、5%阿拉伯树胶50mL/L。在硅酸盐体系的最佳组成条件下,对最佳工艺条件进行了研究,获得了最佳的工艺成膜条件为:氧化时间为30min、终止电压为200V、周期为30ms、占空比为40%。借助SEM,EDS、XRD,电化学腐蚀等方法,对最优实验条件下制备陶瓷层的形貌、成分、相组成和耐蚀性等性能进行了测试分析。SEM实验结果表明陶瓷膜表面比较光滑致密,但还是有少量的微孔存在,陶瓷膜纵向断面由内部致密层和外部疏松层组成,致密层组织致密,与基体结合紧密,属于冶金结合;疏松层组织有一些微孔。EDS结果表明电解液中所含的组分参与了微弧氧化成膜反应,电解液中一些原子进入微弧氧化膜层,使得可以通过改变电解液成分、浓度等参数来调整膜层的相组成,这有利于膜层的进一步改性。XRD实验结果表明在铝酸盐体系中,微弧氧化膜层主要由Mg、MgO、MgAl2O4和Al12Mg17等组成;在硅酸盐体系中,微弧氧化膜层主要由MgO、Mg2SiO4和SiO2等组成。电化学腐蚀实验结果和浸泡实验结果表明微弧氧化处理后所得膜层显著提高了基体镁合金的耐腐蚀能力。通过两种电解液和工艺参数所形成的微弧氧化陶瓷膜的性能对比研究表明:与硅酸盐体系相比,铝酸盐体系中微弧氧化处理后的膜层具有更优良的耐蚀性。
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