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近年来,随着电子元器件向微型化、薄膜化、高频化、集成化等方向发展,这样就对作为电子器件基础的功能材料提出了更高的要求。为适应磁性器件的需要,具有高磁导率并能保持到几百MHz甚至GHz微波频段的软磁薄膜成为磁性材料研究领域的最新热点,它将广泛应用于磁记录头、微电感、微变压器、电磁噪声抑制器以及高频磁传感器。本文主要从研究FeCo薄膜的制备工艺、性能测试和实验比较分析出发,来探寻软磁薄膜高频性能的影响因素。主要的工作有:以CoNbZr和NiFe作为底层,采用直流磁控溅射方法制备FeCo双层薄