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Ni-Al薄膜是一种很有发展前景的热敏薄膜材料。本论文用双靶直流磁控共溅射法制备了Ni-Al薄膜，利用AFM、SEM-EDS、XRD、SPAT对Ni-Al薄膜的表面形貌、组分、显微结构和缺陷进行了表征和分析；用标准四探针测试仪对薄膜的电学特性进行了研究，用自行设计的TCR测试系统对Ni-Al薄膜的热敏特性进行了研究。主要得出以下结论：采用双靶磁控共溅射方法，通过调节Ni靶和Al靶功率，制备出了满足预期成分要求的Ni-Al热敏薄膜，薄膜的表面致密、平整，表明双靶磁控共溅射是制备Ni-