小分子在金属表面的吸附是表面科学的重要课题，NO的吸附，尤其是研究的热点。用基于密度泛函理论的第一性原理方法研究了NO在Al(100)面的吸附，计算了NO在各个高对称位置吸附后的优化结构，结合能，以及NO键长的变化等。研究发现，NO在空位上是解离吸附的，解离后得到的N原子和O原子分别与底层的Al原子成键，这与实验结果是一致的。另外还发现了两个亚稳态，指出在室温下，NO也可能在这两个位置解离。在解离的情况下，又研究了体系的态密度，投影态密度，电荷密度等电子结构特性。我们认为Al(100)向NO的电荷转移，以及NO与底层Al原子的轨道杂化可能是导致NO解离的原因。 　　研究原子在Si表面的扩散在薄膜生长中有重要意义，原子的扩散路径，扩散的快慢都对薄膜生长有重要影响。用分子动力学方法研究了高温下(1200K)Si原子在Si(100)面的扩散，发现了Si原子在垂直于二聚体排方向的新的扩散方式，即Si原子先与二聚体排上的原子进行交换，而后二聚体排上的原子进入槽内，而不是以往认为的Si增原子直接跳入槽内。沿这样的路径扩散不需要克服很大的势垒，因此发生的可能性是不可忽略的，这修正了原先人们认为的Si原子很难在垂直于二聚体排的方向扩散的观点，而且减弱了扩散的各向异性。