聚二甲基硅氧烷(polydimethylsiloxane,以下简称PDMS)软模板在生物医药、物理化学等领域具有重要的应用价值。而PDMS软模板的制备源于母模板结构的制造,因此制备出高分辨率、精细的三维母模板结构是PDMS软模板结构的关键。一般以光刻胶、Si和Si O2等作为母模板结构,目前加工母模板结构的方法有干涉光刻技术和电子束光刻技术等。但是这些方法制备PDMS软刻蚀用母模板工艺复杂,需要旋涂光刻胶、曝光、显影、定影和反应离子束刻蚀等步骤,并且其加工的结构一般为准三维结构。基于上述情况,本文提出利用聚焦离子束刻蚀技术制备PDMS软刻蚀用母模板,并在Si基底上制备出15?m×15?m的轮廓清晰的三维结构母模板,三甲基氯硅烷作为抗粘连层旋涂于Si基底表面,其后旋涂PDMS预聚物复制模铸出与Si基底表面图案互补的三维结构。通过接触角测量仪对Si基底表面疏水性能和用AFM对PDMS样品表面形貌进行表征。研究结果表明,特征图形及小尺寸结构都得到了很好的转移,15?m×15?m结构中小尺寸圆柱直径713.56nm,高度51.39nm也得到很好的倒模。其中用庚烷稀释PDMS预聚物,倒模出的PDMS软模板结构纵横比达到1:1。该方法相对于传统软刻蚀用母模板制备技术,加工的三维结构具有操作步骤简单、制备周期短的特点,是一种有效的制备软刻蚀母模板方法。聚焦离子束刻蚀技术在PDMS软刻蚀用母模板结构中的成功制作,有助于进一步探索其在更小尺寸及微纳米结构器件中的应用。